- 고분해능(High resolution) XRD는 에피층 또는 반도체 박막 등의 단결정 또는 단결정에 가까운 박막의 구조를 분석할 수 있으며, 반도체 박막 분석에 주로 이용된다. 조성 분석, 방위/배향 분석, 결정성 평가, Relaxation 평가, 격자 왜/잔류응력 평가, 막 두께 분석, Interface roughness 분석, 밀도 분석, 면내 균일성 평가, In-plane 회절 등 박막분석에 이용된다. 또한 정성 분석, 정량 분석, 결정화도 평가, 결정자 사이즈/격자변형 평가, 격자정수의 정밀화, Rietveld 해석 등 분말회절에도 사용한다

- X-ray tube: 3kW X-ray generat(Cu)
- Goniometer radius : 285mm
- 2theta measuring range: -3 ~ +154°
- Min. step angle : 0.0001°
- Cross beam optic, Channel cut beam conditioner
- Stard attachment, Thinfilm attachment, Small angle X-ray scattering attachment

- Rocking curve, theta-2theta cureve: Measurements of crystal ientation
- Reciprocal mapping: Relaxed thin films, In -plane parameters
- Reflectivity measurement: Film thickness, roughness, mixing of films, etc.
- SAXS system available: Particle size, distribution, mphology
- 박막회절, 분말회절, In-plane회절, X-선 반사율,
- 소각산란(SAXS, Small-angle X-ray Scattering)